鉻 濺射靶 高純薄膜 金屬板

薄膜鍍膜用高純鉻濺射靶是半導體、電子學和科學研究領域的基礎材料，高純金屬材料已廣氾應用於半導體、太陽能電池、電子、光學、LED、平板顯示器、航空航天、軍事等各個行業。裝飾及其他工業應用和科研應用。為了滿足多個領域的多樣化需求，快速銀可以定製各種材料尺寸和狀態，純度3N-7N從克到噸。項目：鉻目標純度：99.95%尺寸：定製形狀：圓形平面、矩形、管狀，根據要求