铬 溅射靶 高纯薄膜 金属板

薄膜镀膜用高纯铬溅射靶是半导体、电子学和科学研究领域的基础材料，高纯金属材料已广泛应用于半导体、太阳能电池、电子、光学、LED、平板显示器、航空航天、军事等各个行业。装饰及其他工业应用和科研应用。为了满足多个领域的多样化需求，快速银可以定制各种材料尺寸和状态，纯度3N-7N从克到吨。项目：铬目标纯度：99.95%尺寸：定制形状：圆形平面、矩形、管状，根据要求